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磁控溅射中靶中毒除了减少反应气体是不是可以增加氩气流量来避免中毒现象.

来源:学生作业帮 编辑:大师作文网作业帮 分类:综合作业 时间:2024/11/16 17:23:20
磁控溅射中靶中毒除了减少反应气体是不是可以增加氩气流量来避免中毒现象.
磁控溅射中靶中毒除了减少反应气体是不是可以增加氩气流量来避免中毒现象.
为了减轻靶中毒现象,技术人员常用以下方法解决:(1)将反应气体和溅射气体分别送到基片和靶附近,以形成压强梯度;(2)提高排气速率;(3)气体脉冲导入;(4)等离子体监视等.