来源：学生作业帮 编辑：大师作文网作业帮 分类：综合作业 时间：2024/11/11 07:04:16
紫外光负胶的显影液和清洗液的成分是什么
半导体工艺——光刻
紫外负性光刻胶
显影液：二甲苯.清洗液：乙酸丁脂或乙醇、三氯乙烯.
显影中的常见问题：
a、显影不完全（Incomplete Development）.表面还残留有光刻胶.由显影液不足造成.
b、显影不够（Under Development）.显影的侧壁不垂直.由显影时间不足造成.
c、过度显影（Over Development）.靠近表面的光刻胶被显影液过度溶解,形成台阶.由显影时间太长造成.
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