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会造成臭氧层空洞的物质有那些

来源:学生作业帮 编辑:大师作文网作业帮 分类:化学作业 时间:2024/11/17 02:17:59
会造成臭氧层空洞的物质有那些
会造成臭氧层空洞的物质有那些
答:一、简介:消耗臭氧层物质(ODS)主要来源于人工合成的一些含有卤族元素的化合物,它们是造成平流层臭氧损耗的最重要因素,这些造成臭氧层破坏的化合物统称为臭氧层损耗物质.目前的臭氧层损耗物质包括:1、氟氯化碳和哈龙,主要是氟利昂CFC-11、CFC-12等和哈龙Halon-1211、Halon-1301、Halon-2402;2、其他全卤化氟氯化碳,如CFC-13、CFC-111等10种化合物;3、四氯化碳和甲基氯仿;4、氟氯烃类,如HCFC-21、HCFC-22等共74种;5、甲基溴 等.
二、已有相关国际议定书:《关于消耗臭氧层物质的蒙特利尔议定书》见其中附件B:具有消耗臭氧 潜能值 的物质列表如下(后面的附件C则是相关的过渡性物质)
附件B:第一类
———
CF3CL (CFC-13) 1.0
C2FCL5 (CFC-111) 1.0
C2F2CL4 (CFC-112) 1.0
C3FCL7 (CFC-211) 1.0
C3F2CL6 (CFC-212) 1.0
C3F3CL5 (CFC-213) 1.0
C3F4CL4 (CFC-214) 1.0
C3F5CL3 (CFC-215) 1.0
C3F6CL2 (CFC-216) 1.0
C3F7CL (CFC-217) 1.0
第二类
———
CCL4 四氯化碳 1.1
第三类
———
C2H3CL3※ 1,1,1-三氯乙烷 0.1
(甲基氯仿)
--------------------------------------※本分子式并不指1,1,2-三氯乙烷.
附件C:
过渡性物质
--------------------------------------
类 别 物 质 消耗臭氧
潜能值
--------------------------------------
第一类
———
CHFCI2 (HCFC-21)
CHF2CI (HCFC-22)
CH2FCI (HCFC-31)
C2HFCI4 (HCFC-121)
C2HF2CI3 (HCFC-122)
C2H3F3CI2 (HCFC-123)
C2HF4CI (HCFC-124)
C2H2FCI3 (HCFC-131)
C2H2F2CI2 (HCFC-132)
C2H2F3CI (HCFC-133)
C2H3FCI2 (HCFC-141)
C2H3F2CI (HCFC-142)
C2H4FCI (HCFC-151)
C3HFCI6 (HCFC-221)
C3HF2CI5 (HCFC-222)
C3HF3CI4 (HCFC-223)
C3HF4CI3 (HCFC-224)
C3HF5CI2 (HCFC-225)
C3HF6CI (CFC-226)
C3H2FCI5 (HCFC-231)
C3H2F2CI4 (HCFC-232)
C3H2F3CI3 (HCFC-233)
C3H2F4CI2 (HCFC-234)
C3H2F5CI (HCFC-235)
C3H3FCI4 (HCFC-241)
C3H3F2CI3 (HCFC-242)
C3H3F3CI2 (HCFC-243)
C3H3F4CI (HCFC-244)
C3H4FCI3 (HCFC-251)
C3H4F2CI2 (HCFC-252)
C3H4F3CI (HCFC-253)
C3H5FCI2 (HCFC-261)
C3H5F2CI (HCFC-262)
C3H6FCI (HCFC-271)
--------------------------------------