光刻胶匀胶后为什么要去除掉边缘的光刻胶

为什么整个光刻步骤要在黄光照明的暗室内进行 光刻是什么意思? 简述光刻的工艺过程（步骤） 试述光刻加工的主要阶段 什么是su-8光刻胶这个材料的特性 什么的作下介绍 什么化学物质能腐蚀二氧化硅但不腐蚀光刻胶? 半导体工艺难题!1,现在先进集成电路光刻工艺中曝光光源的波长为193nm或157nm,根据现代光学理论,曝光光刻胶的分辨 关于光刻用激光器做光刻产品,激光直写系统,用的紫外胶,用哪种类型激光器好点,我看其他公司激光直写设备（国内、外）都是40 光刻中什么i线和g线在光刻技术中,i线和g线指的是什么,波长不一样吗,还是原理? 加仑和克的换算有谁知道“加仑与克之间的换算”,LCD公司所用的‘正性光刻胶’,尽快 光刻曝光技术的主要流程及每个步骤的意义 在光刻工艺中的图形分辨率是什么意思